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簡要描述:高頻感應熔樣機供應是我公司精心研制的一款針對XRF分析用玻璃熔片法制樣的設(shè)備,還可用于制備溶液用于AAS和ICP等分析
詳細介紹
高頻感應熔樣機供應原理:
玻璃熔融法制備XRF的測試用玻璃熔片是這樣過程:試樣在助熔劑(如硼酸鋰鹽)的協(xié)助下,用鉑黃坩堝(一般鉑金/黃金質(zhì)量比例為95/5)做導熱容器,通過高溫加熱熔融(熔樣溫度一般在1050℃-1300℃間),最后直接冷卻鍋底成型或鑄模冷卻成型制成玻璃熔片。玻璃熔片法作為XRF測試的制備樣品重要方法之一,有效減少甚至消除了樣品在XRF分析時的顆粒效應、基體效應、礦物效應等不良因素,提高了XRF的精確度,在鋼鐵、冶金、化工、地質(zhì)、水泥等行業(yè)有廣泛應用。本自動高頻熔樣機是為快速高效制備XRF分析用玻璃熔片而設(shè)計,整機結(jié)構(gòu)合理,采用高頻感應加熱技術(shù),有*的加熱速度,同時配備有高精度紅外測溫系統(tǒng)實時測溫并結(jié)合PID控溫技術(shù)確保熔樣過程的溫度準確性和重現(xiàn)性,很好的保障玻璃熔片的質(zhì)量,采用直觀全觸摸屏設(shè)計,人機界面友好,操作簡單,PLC智能控制組成整機控制中樞,使得熔樣機具有*的自動化程度,穩(wěn)定和靈活操作特性。高頻快速加熱結(jié)合完整的溫度控制、運動搖勻、安全機制等設(shè)計使得本設(shè)備在玻璃熔片制樣上表現(xiàn)出高效穩(wěn)定特性,各項指標性能表現(xiàn)*,擁有很高的性價比,適用性強,可以滿足不同客戶對不同樣品的快速玻璃熔片制樣需求。
高頻感應熔樣機供應的使用條件
1、使用過程中必須保持真空環(huán)境,有利于在下次使用時加快真空化速度。
2、溫度控制不得超過額定溫度。嚴禁向爐內(nèi)倒入各種液體和熔融的金屬材料,以保持爐內(nèi)清潔。
3、定期維護自控系統(tǒng)電氣連接部分的接觸是否良好,并注意加熱電源與感應電磁線圈的連接點是否緊固。
4、高頻熔樣機的工作條件是否精致,不能隨意使用。主要用于以下前提條件。
(1)工作溫度在-10℃至75℃之間。
(2)周圍空氣的相對濕度不得超過85%。
(3)電爐周圍無導電浮塵、易燃易爆氣體和腐蝕性氣體等嚴重威脅金屬材料和絕緣層材料的導電浮塵、易燃易爆氣體和腐蝕性氣體。
(4)無明顯的歪斜、振動和顛簸。
產(chǎn)品特點:
1、 操作采用觸摸屏+PLC 控制器,能實現(xiàn)熔煉功率、加熱時間和搖擺角度/速度包括抽真空、自動充放氣等全自動控制,同時可采用紅外監(jiān)測樣品溫度;程度實現(xiàn)了一鍵控制全過程樣品熔融過程。
2、熔化速度快,由于熔化過程帶自旋加搖擺裝置,使制成的熔融樣品均勻確保了樣品分析的準確性。
3、 可程序階梯式升溫并采用紅外測溫以方便滿足不同材料熔融條件
4、坩堝數(shù)量:2 個坩堝,
5、熔樣時間:根據(jù)具體工藝,一般5-10分鐘完成一次式樣測試
6、工藝數(shù)量存儲:工藝可隨時編輯、保存、下載、調(diào)用,存儲數(shù)目根據(jù)需要和內(nèi)存配置可不限條數(shù)的編輯。
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