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簡要描述:小型真空懸浮爐 實驗室儀器設(shè)備設(shè)備簡介真空磁懸浮熔煉,是近些年來飛速發(fā)展的一種熔煉,主要用來制取高熔點、高純度和極活潑的金屬,在冶金和高材料制備等許多重要領(lǐng)域得到了的應(yīng)用,顯示出良好的應(yīng)用前景。
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小型真空懸浮爐 實驗室儀器設(shè)備
一·設(shè)備簡介:真空磁懸浮熔煉,是近些年來飛速發(fā)展的一種熔煉,主要用來制取高熔點、高純度和極活潑的金屬,在冶金和高材料制備等許多重要領(lǐng)域得到了的應(yīng)用,顯示出良好的應(yīng)用前景。
二、設(shè)備原理
真空磁懸浮熔煉方法,是通過高頻或中頻交變磁場,在金屬熔煉中形成與重力相抵消的電磁力,使熔體懸浮,與坩堝內(nèi)壁脫離方法是一項集電磁學(xué)、流體學(xué)、熱力學(xué)、力學(xué)、物理化學(xué)及冶金等多學(xué)科于一體的綜合冶金技術(shù)。因此受到了人們廣泛的觀注,在許多材料制備領(lǐng)域得到應(yīng)用。由于磁懸浮的作用,使熔體與坩堝內(nèi)壁脫離接觸,這樣熔體與坩堝壁之間的散熱行為由傳導(dǎo)散熱改為輻射散熱,從而導(dǎo)致散熱速度聚減,使熔體可達到很高的溫度(1700~2500℃),宜于熔煉高熔點金屬或其合金。更重要的方面是:熔煉時爐料的懸浮將有效防止?fàn)t料與坩堝壁接觸所帶來的污染。宜于獲得高純度或極活潑的金屬。
小型真空懸浮爐 實驗室儀器設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)
1、額定功率:≤35Kw
2、容量:水冷銅坩堝,5- 20g(以鋼液計算)
3、輸入電源:3 相、 380 ± 10 %、 50Hz
4、冷態(tài)極限真空度:10Pa
5、熔煉溫度≥2100℃(根據(jù)材料熔點不同熔煉溫度不同)
6、水冷銅坩堝≤¢30 熔煉溫度低于2100度的金屬合金(根據(jù)熔煉材料定)
7、可充保護氣≤0.03Mpa
8、控制方式:操作模擬屏+PLC,配置手動操作按鈕
9、操作模式:主要閥門氣動、電動
小型懸浮爐介紹安全操作規(guī)程:
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