一·真空/氣氛保護(hù)區(qū)域熔煉爐 晶體爐設(shè)備用途

　　主要用于金屬基合金材料的定向凝固晶體生長和材料的高溫提純使用

二·真空/氣氛保護(hù)區(qū)域熔煉爐 晶體爐產(chǎn)品特點

1·模塊化設(shè)計，結(jié)構(gòu)緊湊，外形美觀，

2·采用底部電動升降和結(jié)構(gòu)精巧，方便，移動平穩(wěn)裝卸料方便

3· 采用觸摸屏+plc控制方式，自動化程度高，操作直觀，功能強(qiáng)大。

4· 在觸摸屏內(nèi)可預(yù)存幾十種燒結(jié)工藝，一次編輯，以后直接調(diào)用使用，省去多次編輯工藝的麻煩，避免輸入錯誤，燒壞產(chǎn)品。

5· 燒結(jié)的溫度，真空度，等數(shù)據(jù)可實時記錄，也可隨時啟動停止記錄，減少無用數(shù)據(jù)，數(shù)據(jù)可查詢，可導(dǎo)出下載。

6· 燒結(jié)溫度高，用石墨發(fā)熱體，可達(dá)1650℃，

三·設(shè)備參數(shù)

1·設(shè)備總功率：≤15Kw；電源電壓：3相380V,50Hz

2·溫度：1650℃ 加熱功率 ≤8Kw 單相220V

3·額定溫度：室溫~1600℃

4. 工作區(qū)尺寸：Ф30×200mm（直徑×高，）

5.測溫系統(tǒng)：                  紅外

6.坩堝下降速度：              慢速升降0.1-10mm/h（伺服控制）

快速升降50-200mm/min（帶手動升降）

  位移行程 ≤150mm

7.中心軸有效行程/載重：      ≤300mm/20kg

8.爐內(nèi)充氣壓力：             ≤0.05MPa